超純水設備工作原理及參數
超純水設備是將水中的導電介質幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。這種水中除了水分子(H20)外,幾乎沒有什么雜質,沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物,超純水是一般工藝很難達到的,電阻率一般為10~18.3MΩ·cm.
常用工藝:
1. RO+離子交換
特點:適用于原水水質較好的條件,投資較少,自動化程度相對較低,適用于出水品質在10—15兆歐/厘米。
2. RO+EDI
特點:自動化程度較高,出水品質穩定,適用于出水品質在15—17兆歐/厘米
3. RO+EDI+拋光床。
特點:自動化程度較高,投資較大,出水品質優良,適用于出水品質在17—18.3兆歐/厘米
為了保障您的實際生產需求,針對選擇工藝,請咨詢我司技術人員。
基本參數:
指標 | 參數 |
EDI要求: | 反滲透RO產水,電導率1-50μs/cm,大允許電導率≤50μs/cm |
pH值: | 7.5—9 |
溫度: | 15℃--35℃ |
進水壓力: | 0.15—0.4MPa |
濃水進水壓力: | 0.10—0.3MPa |
產水壓力: | 0.05—0.25MPa |
濃水出水壓力: | 0.02—0.2MPa |
進水硬度: | 0.2—0.6MPA |
進水有機物: | TOC<0.5ppm |
進水氧化劑: | Cl2(活性)<0.03ppm |
進水硅: | SiO2<0.5ppm |
進水總CO2: | <3ppm |
進水顆粒度: | <1μm |
產品特點:
① 產品水品質高,長期運行產品水水質穩定。
②自動化程度高,操作管理簡單,勞動強度低
③不會因再生而停機,連續再生,無需停機。
④不需化學再生,無污水排廢
⑤運行費用低,能耗低
⑥占地面積小,廠房投資少
應用行業:
1、太陽能光伏行業:單/多晶硅、硅片切割、太陽能電池、半導體硅材料等工用純水和超純水。
2、電子工業:半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線框架、集成電路、印刷電路板、液晶顯示器、觸摸屏、眼鏡鏡片、數碼相機鏡片、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用超純水。
3、生物醫藥工業:生物技術用水、醫藥生產用水、生化制品用水、針劑、粉針劑、藥劑、大輸液、醫用無菌水、口服液等符合GMP標準。
4、化工工業:化工工藝用水、化學試劑、化工生產用水、精細化工、化妝品、洗潔精、洗衣液、打印機墨水等生產工藝用純水。
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